哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成分为哈西奈德。

本品主要成份醋酸地塞米松C。

国药集团三益药业(芜湖)有限公司

福元药业有限公司

国药准字H34020306

国药准字H34020374

本品适用于接触性湿疹﹑异位性皮炎﹑神经性皮炎﹑面积不大的银屑病﹑硬化性萎缩性苔藓﹑扁平苔藓﹑盘状红斑性狼疮﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

外涂患处，每日早晚各一次。

涂患处，一日2－3次。

1、对该药过敏者禁用； 2、由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变禁用； 3、溃疡性病变禁用； 4、痤疮、酒鼻禁用； 5、眼睑部禁用（有引起青光眼的危险）； 6、渗出性皮肤病。

真菌性或病毒性皮肤病禁用，对本药及其他皮质类固醇过敏者禁用。

本品适用于接触性湿疹﹑异位性皮炎﹑神经性皮炎﹑面积不大的银屑病﹑硬化性萎缩性苔藓﹑扁平苔藓﹑盘状红斑性狼疮﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

本品主要用于过敏性和自身免疫性炎症性疾病。如局限性瘙痒症，神经性皮炎，接触性皮炎，脂溢性皮炎，慢性湿疹等。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感，刺痛，暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部），皮肤萎缩，萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜，瘀斑，皮肤脆弱，多毛症，毛囊炎，粟丘疹，皮肤脱色，延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

长期大量使用可继发细菌、真菌感染，局部可发生痤疮、酒渣样皮炎、皮肤萎缩及毛细血管扩张，并可有瘙痒、色素沉着、颜面红斑、创伤愈合障碍等反应。

1、大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。 2、出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。 3、警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1.并发细菌及病毒感染时，应与抗菌药物合用。2.不能长期大面积应用。