哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

复方曲安奈德乳膏

本品主要成分为哈西奈德。

本品为复方制剂，其组份为每l克内含曲安奈德1.O毫克、制霉菌素100,000单位、硫酸新霉索(按新霉紊计)2500单位和短杆菌肽250单位。

国药集团三益药业(芜湖)有限公司

中美上海施贵宝制药有限公司

国药准字H34020306

国药准字H31022515

本品适用于接触性湿疹﹑异位性皮炎﹑神经性皮炎﹑面积不大的银屑病﹑硬化性萎缩性苔藓﹑扁平苔藓﹑盘状红斑性狼疮﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

适用于同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎。

外涂患处，每日早晚各一次。

局部外用。一日2～4次，涂擦患处。其它详见说明书。

1、对该药过敏者禁用； 2、由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变禁用； 3、溃疡性病变禁用； 4、痤疮、酒鼻禁用； 5、眼睑部禁用（有引起青光眼的危险）； 6、渗出性皮肤病。

长期使用可引起局部皮肤萎缩、毛细血管扩张、痤疮样皮炎、毛囊炎、色素沉着及继发感染。详细内容见说明书。

孕妇及哺乳期妇女用药：尚缺乏孕妇及哺乳期妇女用药的临床数据。在权衡利弊情况下．尽可能避免使用。详细内容见说明书。儿童用药：婴儿及儿童不宜使用。详细内容见说明书。老年用药：老年患者应避免长期、大量使用。

本品适用于接触性湿疹﹑异位性皮炎﹑神经性皮炎﹑面积不大的银屑病﹑硬化性萎缩性苔藓﹑扁平苔藓﹑盘状红斑性狼疮﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

适用于同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感，刺痛，暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部），皮肤萎缩，萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜，瘀斑，皮肤脆弱，多毛症，毛囊炎，粟丘疹，皮肤脱色，延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

1、大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。 2、出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。 3、警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1.应避免接触口腔、鼻部等粘膜。 2.本品含有多种抗生素，长期使用会导致不敏感细菌和霉菌等的过量生长，而引起二重感染，故本品治疗量最多不超过2周。 3.皮质类固醇激素可增加微生物感染的机会。因此，本品仅在同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎患者方可使用。 4.本品含有新霉素能引起肾中毒和耳中毒，对于大面积烧伤、营养性溃疡等病人应慎用。 5.有明显循环系统疾病的患者慎用。 6.应.避免全身大面积使用及长期使用。 8.涂药处如有灼烧、瘙痒、红肿时，应停止用药。 9.请将此药置于儿童不能触及处。