【通用名称】： 哈西奈德乳膏
【商用名称】： 哈西奈德乳膏
【主要成份】： 本品主要成份为：哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。其化学名称为：16α，17-[(1-甲基亚乙基)双(氧)]-11?-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。 分子式：C24H32ClFO5 分子量：454.9
【功能主治】： 接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。
【用法用量】： 外涂患处每日早晚各一次。
【药品相互作用】： null
【注意事项】： null
【不良反应】： null
【特殊人群用药】： 儿童注意事项： 应为面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。 妊娠与哺乳期注意事项： 尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事项： 遵医嘱。
